科學(xué)儀器領(lǐng)域項目獲批立項
9月2日，復(fù)享光學(xué)承擔(dān)的上海市2022年度“科技創(chuàng)新行動計劃”科學(xué)儀器領(lǐng)域項目《堆疊環(huán)柵晶體管（GAA-FET）制程量測拉曼光譜儀》獲批立項。
面向先進(jìn)制程，復(fù)享光學(xué)承擔(dān)大型科學(xué)儀器研制項目
本次復(fù)享光學(xué)承擔(dān)的項目，屬于“科學(xué)儀器研制開發(fā)”專題項目。該項目基于共焦拉曼光譜，發(fā)展面向GAA-FET制程檢測的拉曼光譜技術(shù)，探索在GAA-FET制備過程中多層納米薄膜的厚度、應(yīng)力、界面起伏、橫向刻蝕和溝道載流子遷移率等關(guān)鍵參數(shù)的量測技術(shù)，形成一套具有重大產(chǎn)業(yè)應(yīng)用前景的專業(yè)高端拉曼光譜設(shè)備。
通常來講，大型科學(xué)儀器研發(fā)制造，要求承擔(dān)單位具備堅實(shí)可靠的研發(fā)積累、制造工藝和應(yīng)用經(jīng)驗。同時，大型科學(xué)儀器的研制還涉及多學(xué)科領(lǐng)域的大量基礎(chǔ)研究，要求承擔(dān)單位從技術(shù)原理出發(fā)，探索前沿科學(xué)，深入創(chuàng)新源頭，才能形成原始技術(shù)突破，研制出創(chuàng)新型、突破型的高端科學(xué)儀器。
復(fù)享光學(xué)作為深度光譜技術(shù)創(chuàng)導(dǎo)者，始終回歸光與物質(zhì)的相互作用原理，十年專注光譜技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用，在光譜模組產(chǎn)品的研制基礎(chǔ)之上，先后向市場推出多款大型集成光譜系統(tǒng)，融合光學(xué)智能算法，解決了多項科研和先進(jìn)制造中的復(fù)雜關(guān)鍵問題，是創(chuàng)新型光譜儀器的可靠的研制者。
在拉曼技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用領(lǐng)域，復(fù)享光學(xué)是國內(nèi)較早研究拉曼技術(shù)的光學(xué)企業(yè)，已研發(fā)并向市場推出拉曼系列產(chǎn)品，涵蓋拉曼檢測模塊和拉曼檢測系統(tǒng)。尤其公司共焦光譜產(chǎn)品線中的gora系列顯微共焦拉曼光譜系統(tǒng)，融合拉曼光譜技術(shù)與共焦技術(shù)，實(shí)現(xiàn)衍射極限下的空間分辨率，獲取微觀層面的物質(zhì)成分和結(jié)構(gòu)信息，是復(fù)享光學(xué)拉曼光譜技術(shù)的代表產(chǎn)品。復(fù)享光學(xué)共焦光譜產(chǎn)品線已申請數(shù)十項相關(guān)專利，獲得上海市高新技術(shù)轉(zhuǎn)化項目“顯微共焦光譜系統(tǒng)”的認(rèn)證，已服務(wù)于國內(nèi)外眾多高校和科研院所，獲得良好的用戶反饋。
立足行業(yè)尖端，復(fù)享光學(xué)建立先進(jìn)制造裝備世界品牌
科學(xué)儀器既是前沿科學(xué)研究的重要工具，也是集成電路等先進(jìn)制造裝備的重要組成部分。該項目面向集成電路下一代的3nm 及以下制程，基于拉曼光譜技術(shù)，開發(fā)針對GAA-FET制備過程多層納米薄膜的量測設(shè)備，以保障芯片的最終良率，具有重大產(chǎn)業(yè)應(yīng)用前景。
“一代制程，一代工藝，一代設(shè)備”，新一代GAA-FET制程即將打開新的全球技術(shù)格局，也將帶來產(chǎn)業(yè)布局新的變化。隨著制程不斷推進(jìn)，芯片制備過程中的量測工序大幅增加，精密量測技術(shù)對于良率控制的重要性已經(jīng)不言而喻。其中，占據(jù)全部檢測技術(shù)約70%的光學(xué)量測，是集成電路量測的關(guān)鍵，面臨著巨大的機(jī)遇和挑戰(zhàn)。
為響應(yīng)半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)需求，需要建立多層次的研發(fā)平臺。為此，復(fù)享光學(xué)成立了對接產(chǎn)業(yè)需求的“上海微納制程智能檢測工程技術(shù)研究中心”，并與復(fù)旦大學(xué)共同建立了致力于研究微納制造前沿共性關(guān)鍵技術(shù)的“光檢測與光集成校企聯(lián)合研究中心”。
當(dāng)前正處于GAA-FET技術(shù)規(guī)范形成的前期，復(fù)享光學(xué)攜兩個中心，主動參與全球產(chǎn)業(yè)技術(shù)的交流和競爭，抓住國內(nèi)產(chǎn)業(yè)發(fā)展創(chuàng)造的市場空間和國際技術(shù)新老迭代的窗口機(jī)遇，通過深入產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈和承擔(dān)重大政府專項，致力于在GAA-FET微納制程量測領(lǐng)域取得重大突破，推動集成電路國產(chǎn)設(shè)備的跨越式發(fā)展。
同時，復(fù)享光學(xué)將以此為契機(jī)發(fā)展智能光譜技術(shù)，以深度算法為驅(qū)動，持續(xù)精研拉曼光譜、顯微光譜、相位光譜、角分辨光譜等分析技術(shù)，通過以科研應(yīng)用為基礎(chǔ)和出發(fā)點(diǎn)，以產(chǎn)業(yè)需求為目標(biāo)和落腳點(diǎn)，形成具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高端科學(xué)檢測儀器系列產(chǎn)品，參與全球技術(shù)迭代，建立光學(xué)領(lǐng)域的先進(jìn)制造世界品牌。
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